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C-25X200型 4英寸/6英寸 单面光刻机 精密光刻设备

  • 产品名称:C-25X200型 4英寸/6英寸 单面光刻机 精密光刻设备

  • 产品类型:测量显微镜

  • 产品型号:C-25X200型4英寸/C-25X200型6英寸

  • 发布时间:2023-09-06


C-25X200型 4英寸/6英寸 单面光刻机 精密光刻设备产品描述

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C-25X200型 4英寸/6英寸 单面光刻机 精密光刻设备

主要用途:

本机针对各大专院校、企业及科研单位。对光刻机使用特性研发的一种高精度的光刻机,三层减震,组合式,拆卸方便。

它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产,适合硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片、宝石片的曝光,而且也适合易碎片如:砷化钾、磷化铟的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。

主要性能指标:

1.多种版夹盘

lC-25X200型4英寸光刻机有四种版夹盘,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。对版的厚度无特殊要求(1~4mm皆可)。

lC-25X200型6英寸光刻机有六种版夹盘,能真空吸附7" ×7"或6" ×6"或5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。对版的厚度无特殊要求(1~4mm皆可)。

2.真空吸附基片的“承片台”

lC-25X200型4英寸光刻机设有相对应的真空吸附基片的“承片台”三个,分别适用于φ2、φ3、φ4片。对于非标准片或碎片,只要堵塞相应的小孔,同样能真空吸附。

lC-25X200型6英寸光刻机设有相对应的真空吸附基片的“承片台”五个,分别适用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6片。对于非标准片或碎片,只要堵塞相应的小孔,同样能真空吸附。

3.照明

l光源:采用GCQ350Z型超高压水银直流汞灯。

l照明范围:≤ф100mm

l不均匀性:ф100mm内±3%

l可使用的波长:g线、h线、I线的组合。根据用户要求,可增加I线滤光片。

l成象面照明:光照度10~15毫瓦/厘米²,任意可调(出厂时,照明度调在10mw/cm²)。
曝光分辨率:1μm

l对准精度: 1μm

l套刻精度: 1μm

4.采用进口时间继电器(该继电器可从0.1秒∽999.9秒预设)控制气动快门,动作准确可靠。

5.该机为接触式曝光机,但可实现:

l硬接触曝光:用管道真空来获得高真空接触。真空≤-0.05MPa。

l软接触曝光:接触压力可将真空降到-0.02MPa-0.05MPa之间。

l微力接触曝光:小于软接触。真空≥-0.02MPa。

6.分辩率估计

如果用户的“版”、“片”精度符合国家规定,环境、温度、湿度、尘埃得到严格控制,采用进口正性光刻胶,且匀胶厚度得到严格控制。加之前后工艺先进的话,硬接触曝光的最小分辨度可达1μm以上

7.对准

观察系统为两个单筒显微镜上装二个CCD摄像头,通过视屏线连接到显视屏上。

a.单筒显微镜为0.7X~4.5X连续变倍显微镜(也可为1.6X~10X)。

b.CCD摄像机靶面对角线尺寸为:1/3,(6mm);

c.采用19"液晶监视器,其数字放大倍率为19÷1/3=57倍;

d.观察系统放大倍数为:0.7×57≈40倍(最小倍数),4.5×57≈256倍(最大倍数)或(91倍~570倍)。

对准台:(采用片动,版不动方式)

X、Y调整:±5mm。

θ调整:转角≤5°

对准间隙(分离间隙)0~5mm任意可调。

整个对准台相对于显微镜可作±20mm扫描运动。

“接触、分离”20μm情况下,片相对于版的“漂移量”,可调到≤±0.5μm。

8.设备所需能源:

主机电源: 220V±10% 50HZ

洁净空气≥0.4MPα。

真空:-0.07~-0.08MPα。

9.尺寸和重量:

尺寸:机体720 mm(长)×720 mm(宽)×882mm(高)。

重量:≤100Kg。

机体放在专用工作台上。

工作台:1100 mm(长)×750 mm(宽)×645 mm(高)。

高度可调范围0~30mm。

重量50Kg(工作台后侧装有电气部分)。

总重量≤200Kg

10.C-25X200型光刻机的组成

l主机

主机(含机体和工作台)

对准用单筒显微镜

蝇眼曝光头

l附件

主机附件

3"□型掩版夹盘

4"□型掩版夹盘(出厂时安装到机器上)

用于2"基片的真空夹持承片台。

用于3"基片的真空夹持承片台(出厂时安装到机器上)

(若需特殊的基片承片台,订货时用户提出)

显微镜组成

单筒显微镜二个

两个CCD

视频连接线。

计算机和22"液晶监视器。

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